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光机电液系统集成与控制

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教育背景

时间

毕业学校

所学专业

学历

2017.09-2022.06

广东工业大学

机械工程(硕博连读)

博士

2013.09-2017.06

广东工业大学

机械设计制造及其及自动化

学士

工作经历

时间

工作单位

职称、职务

2022.08至今

永利集团304am官方入口

校聘副教授

研究领域（方向）（4个以内）

(1) 半导体晶片超精密平坦化加工

(2) 超精密加工理论与技术

(3) 化学机械抛光

(4) 智能材料开发与应用

个人总体简介

邓家云，男，汉族，中共党员，校聘副教授，硕士生导师，于广东工业大学永利集团304am官方入口获工学博士学位。研究领域主要为半导体晶片超精密平坦化加工，主要包括超光滑平坦化加工设备的研制与开发、研磨加工、化学机械抛光加工机理及工艺优化研究等。已发表论文22篇，其中，SCI论文16篇(一作中科院2区论文7篇，一作中科院3区论文2篇，二作中科院3区论文3篇)，EI论文3篇(一作1篇)，核心论文2篇；申请、授权专利6项。

目前，主要研究工作集中在学科交叉前沿，融合化学、化学反应动力学、材料学、机械学等学科，致力于研究单晶蓝宝石、单晶SiC、单晶GaN、单晶金刚石等第三代半导体晶片的超精密平坦化加工(研磨、磨削、化学机械抛光)等，为我国攻克第三代半导体芯片制造“卡脖子”难题提供有力技术支撑。

研究生招生需求：课题组研究方向涉及学科交叉，可接收机械、电子、材料、化学等专业学生，要求主动、勤奋、动手能力强、勇于接受学习新知识，对科学研究、技术开发感兴趣、有志于从事半导体晶片超精密加工的同学。

主要科研项目（代表性的8项以内）

(1) 云南省科技厅 永利集团304am官方入口“双一流”创建联合专项-面上项目，基于电芬顿反应的第三代半导体单晶SiC晶圆化学机械抛光协调增效机理研究(No. 202301BE070001-030)，2023.12—2026.11，20万，在研，主持

(2) 国家自然科学基金面上项目，氮化镓晶片空间动态磁场磁流变电芬顿复合抛光研究(No. 52075102)，2021.01—2024.12，58万，在研，参与

(3) NSFC—广东联合基金项目，多场耦合控制磨料状态的新一代光电晶片超光滑平坦化加工理论与关键技术研究(No. U1801259)，2019.01—2022.12，255万，已结题，主研

(4) 广东省自然科学基金面上项目，单晶GaN超光滑表面磁流变电芬顿复合抛光机理研究(No. 2019A1515011243)，2019.10—2022.09，10万，已结题，参与

(5) 广东省自然科学基金重点项目，单晶SiC原子级超光滑表面磁流变化学复合抛光基础研究(2015A030311044)，2015.08—2018.08，30万，已结题，参与

(6) 广州市科技计划项目，面向个性需求的芯片衬底材料高效纳米磨削加工技术研究(No. 51475074)，2019.04—2022.03，10万，已结题，主研

表性论文、专著（10项以内）

[1] Deng Jiayun, Qiang Xiong, Lu Jiabin, et al. Optimisation of free-abrasive assisted lapping process with vitrified bonded diamond plates for sapphire substrates [J]. Precision Engineering, 86 (2024) 183–194. (SCI中科院2区; IF=3.6).

[2] Deng Jiayun, Lu Jiabin, Yan Qiusheng, et al. Basic research on chemical mechanical polishing of single-crystal SiC—Electro–Fenton: Reaction mechanism and modelling of hydroxyl radical generation using condition response modelling[J]. Journal of Environmental Chemical Engineering, 2021,9(2): 104954. (SCI中科院2区; IF=7.968).

[3] Deng Jiayun, Lu Jiabin, Zeng Shuai, et al. Preparation and processing properties of magnetically controlled abrasive solidification orientation—solid-phase Fenton reaction lapping-polishing plate for single-crystal 4H-SiC[J]. Surfaces and Interfaces, 2022, 29: 101646. (中科院SCI二区, IF=6.137)

[4] Deng Jiayun, Pan Jisheng, Zhang Qixiang, et al. The mechanism of Fenton reaction of hydrogen peroxide with single crystal 6H-SiC substrate[J]. Surfaces and Interfaces, 2020, 21: 100730. (中科院SCI二区, IF=6.137)

[5] Deng Jiayun, Lu Jiabin, Yan Qiusheng, et al. Enhancement mechanism of chemical mechanical polishing for single-crystal 6H-SiC based on Electro-Fenton reaction[J]. Diamond and Related Materials, 2021(111): 108147. (中科院SCI二区, IF=3.806)

[6] Deng Jiayun, Lu Jiabin, Zeng Shuai, et al. Processing properties for the Si-face of the 4H-SiC substrates using the magnetically-controlled abrasive solidification orientation–solid-phase Fenton reaction for the fabrication of the lapping–polishing plate[J]. Diamond and Related Materials, 2021(120): 108652. (中科院SCI二区, IF=3.806)

[7] Deng Jiayun, Zhang Qixiang, Lu Jiabin, et al. Prediction of the surface roughness and material removal rate in chemical mechanical polishing of single-crystal SiC via a back-propagation neural network[J]. Precision Engineering, 2021, 72: 102-110. (中科院SCI二区, IF=3.315)

[8] Deng Jiayun, Yan Qiusheng, Lu Jiabin, et al. Optimisation of lapping process parameters for single-crystal 4H-SiC using orthogonal experiments and grey relational analysis[J]. Micromachines, 2021, 12(8): 910. (中科院SCI三区, IF=3.523)

[9] Deng Jiayun, Lu Jiabin, Yan Qiusheng, et al. Preparation and polishing properties of water-based magnetorheological chemical finishing fluid with high catalytic activity for single-crystal SiC[J]. Journal of Intelligent Material Systems and Structures, 2020,32(13): 1441-1451. (中科院SCI三区, IF=2.734)

[10] Hu Da, Deng Jiayun, Lu Jiabin, et al. A study of the magneto-controlled mechanical properties and polishing performance for single-crystal SiC used as a magnetorheological-elastomer polishing pad[J]. Smart Materials and Structures, 2022, 31(3): 035021. (中科院SCI三区, IF=4.131)

专利及软件著作权登记（5项以内）

[1] 潘继生, 邓家云, 罗斌, 阎秋生. 一种增压雾化喷淋装置、抛光装置及抛光方法[P]. 中国: CN201910214766.2, 2019.03.20 (发明专利)

[2] 张棋翔, 潘继生, 邓家云, 阎秋生. 一种电芬顿集群磁流变复合研磨抛光装置[P]. 中国: CN201911337686.2, 2019.12.23 (发明专利申请)

[3] 路家斌, 王新汉, 熊强, 邓家云, 阎秋生, 刘文涛.一种金刚石晶片复合抛光加工方法及装置[P]. 中国: CN202110662117.6, 2021.06.15 (发明专利)

[4] 路家斌, 刘文涛, 熊强, 邓家云, 阎秋生, 王新汉. 一种金刚石晶片超精密加工方法及装置[P]. 中国: CN113352230A, 2021.06.17 (发明专利)

[5] 罗斌, 邓家云, 潘继生, 阎秋生. 一种增压雾化喷淋装置及其抛光装置[P]. 中国: ZL 201920362905.1, 2019.03.20 (实用新型专利)